随形阵列定义：线性阵列时，可以根据阵列面的轮廓变化使被阵列特征或实体轮廓也相应变化。

用法：线性阵列时，勾选“随形变化 ”。

条件：1.阵列面需有变化的尺寸。2.被阵列对像的相对尺寸要标注。3.阵列方向应在一个相对尺寸上。

使用时调出特征尺寸。如下图，右键 注解，勾选“显示特征尺寸”

注意阵列方向。

填充阵列定义：在一个闭合轮廓内，使某个特征或实体按一定布局规则填满。

用法：点击线性阵列下的下拉三角，选择 填充阵列。指定填充的面，选择填充的对像。指定填充的布局。

草图驱动的阵列定义：阵列源按照草图上的点阵列。

用法：绘制一个由多个点组成的草图。选择草图驱动的阵列命令，选择草图，选择阵列对像。